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  • 光學材料生產用超純水設備
光學(xue)材料生產用超純水設(she)備


光學材料生產用超純水設備

概述:光學材料生產用超純水設備包括四個流程:洗滌、漂洗、脫水、干燥。因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗,所以有不同的工藝:有行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗;也有行溶劑清洗,再用乳化劑溶解溶劑,再進行水基清洗的。


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光學(xue)材料(liao)生產(chan)用(yong)超純水設備概述:

光(guang)學材料生產用超純水設備(bei)包括四個流(liu)程:洗(xi)(xi)滌(di)、漂洗(xi)(xi)、脫水、干燥。 因為(wei)洗(xi)(xi)滌(di)過程分溶(rong)劑(ji)清(qing)洗(xi)(xi)和(he)水基(ji)清(qing)洗(xi)(xi),所以(yi)有不同(tong)的工藝:有行溶(rong)劑(ji)清(qing)洗(xi)(xi)、溶(rong)劑(ji)蒸汽(qi)干燥再進行水基(ji)清(qing)洗(xi)(xi);也有行溶(rong)劑(ji)清(qing)洗(xi)(xi),再用乳化劑(ji)溶(rong)解(jie)(jie)溶(rong)劑(ji),再進行水基(ji)清(qing)洗(xi)(xi)的。利用流(liu)水將洗(xi)(xi)滌(di)后(hou)鏡片表面的洗(xi)(xi)劑(ji)和(he)污(wu)物溶(rong)解(jie)(jie)、排除的過程稱為(wei)漂洗(xi)(xi)。

超純水設備


光學材料生產(chan)用(yong)超純(chun)水設備水質(zhi):
手機面板、光學鏡片、光學玻璃清洗對超純水水質要求高,帶電力離子和污垢會對鏡片產生不可逆損害,終端水質要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。

光學材料生產用超純水設(she)備技術:
光電光學玻璃行業的 超純水設備主要是為玻璃清洗時給超聲波提供超純水,鍍膜玻璃鏡片清洗超純水設備設計上,采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+SMB除鹽水處理工藝,確保處理后的超純水水質出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用主流可靠產品,采用PLC+觸摸屏控制,全套系統自動化程度高,系統穩定性高。

光學材料生產用超純水設備標準:
1.研磨是光學玻璃生產中決定其加工效率和表面質量(外觀和精度)的重要工序。
2.研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青,少數企業的加工過程中會有漆片。
3.其中研磨粉的型號各異,一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。
4.根據鏡片的材質及研磨精度不同,選擇不同型號的研磨粉。
5.在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的,以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。
6.玻璃研磨過后,需要用超純水進行產品的清洗,以獲得高品質的產品。

選擇起航環保科技和用水難題說再見

深圳市起航環保科技有限公司
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大型設備生產基地

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 * 年產水量達1500萬(wan)噸以上,規模龐大; 

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深圳市起航環保科技有限公司的售后服務體系

定制流程

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型號:專業定制產水量:定制進水水質:市政自來水或者井水出水水質:符合客戶要求的純水水質電導率范圍:0.055μS/cm~10μS/cm電阻率范圍:1MΩ·cm~18.2MΩ·cm(常溫下20°C)
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定制1-100噸純水設備

型號:專業定制產水量:1噸/小時至100噸/小時進水水質:市政自來水或者井水出水水質:符合客戶要求的純水水質電導率范圍:0.055μS/cm~10μS/cm電阻率范圍:1MΩ·cm~18.2MΩ·cm(常溫下20°C)
純水設備

工業用純水設備

型號:專業定制產水量:0.25噸/小時至1000噸/小時進水水質:市政自來水或者井水出水水質:符合客戶要求的純水水質電導率范圍:0.055μS/cm~10μS/cm電阻率范圍:1MΩ·cm~18.2MΩ·cm(常溫下20°C)
定制集裝箱純化水設備

定制集裝箱純化水設備

制水工藝:符合GMP要求二級RO、二級RO+EDI。產水量:定制。產水質:電導率0.055μS/cm~10μS/cm/電阻率1Ω·m~18.2Ω·m占地面積:根據集裝箱大小定制。適用范圍:醫藥/醫療/醫院/新能源/高新科技等行業。